Til hovedinnhold

Tuning of resist slope with hardbaking parameters and release methods of extra hard photoresist for RF MEMS switches

Tuning of resist slope with hardbaking parameters and release methods of extra hard photoresist for RF MEMS switches

Kategori
Vitenskapelig artikkel
Språk
Engelsk
Forfatter(e)
  • Shimul Chandra Saha
  • Geir uri Jensen
  • Tor A Fjeldly
  • Trond Sæther
  • Erik Poppe
  • Håkon Sagberg
Institusjon(er)
  • Norges teknisk-naturvitenskapelige universitet
  • SINTEF AS
  • Ukjent
År
Publisert i
Sensors and Actuators A-Physical
ISSN
0924-4247