Tuning of resist slope with hardbaking parameters and release methods of extra hard photoresist for RF MEMS switches

Tuning of resist slope with hardbaking parameters and release methods of extra hard photoresist for RF MEMS switches

Kategori

Vitenskapelig artikkel

Språk

Engelsk

Forfatter(e)

Shimul Chandra Saha
Geir uri Jensen
Tor A Fjeldly
Trond Sæther
Erik Poppe
Håkon Sagberg

Institusjon(er)

Norges teknisk-naturvitenskapelige universitet
SINTEF AS
Ukjent

År

2007

Publisert i

Sensors and Actuators A-Physical

ISSN

0924-4247

DOI

https://doi.org/10.1016/j