Tuning of resist slope with hardbaking parameters and release methods of extra hard photoresist for RF MEMS switches

Forfatter(e)

• Shimul Chandra Saha
• Geir uri Jensen
• Tor A Fjeldly
• Trond Sæther
• Erik Poppe
• Håkon Sagberg

Institusjon(er)

• Norges teknisk-naturvitenskapelige universitet
• SINTEF AS
• Ukjent

DOI