Til hovedinnhold
Norsk English

Development of a high throughput metalens fabrication process relying on Bosch Deep Reac- tive Ion Etching and UV Nano Imprint Lithorgraphy

Kategori

Vitenskapelig foredrag

Språk

Engelsk

Institusjon(er)

  • SINTEF Digital / Microsystems and Nanotechnology

Presentert på

META2021

Sted

On-Line

Dato

20.07.2021 - 23.07.2021

Arrangør

Metaconferences.org

År

2021

Vis denne publikasjonen hos Cristin