Til hovedinnhold

Towards high-throughput large-area metalens fabrication using UV-nanoimprint lithography and Bosch deep reactive ion etching

Towards high-throughput large-area metalens fabrication using UV-nanoimprint lithography and Bosch deep reactive ion etching

Kategori
Vitenskapelig artikkel
Språk
Engelsk
Forfatter(e)
Institusjon(er)
  • SINTEF Digital / Microsystems and Nanotechnology
  • Ukjent
År
Publisert i
Optics Express
ISSN
1094-4087
Forlag
Optical Society of America
Årgang
28
Hefte nr.
10
Side(r)
15542 - 15561