Til hovedinnhold
Norsk English

Towards high-throughput large-area metalens fabrication using UV-nanoimprint lithography and Bosch deep reactive ion etching

Kategori

Vitenskapelig artikkel

Språk

Engelsk

Forfatter(e)

Institusjon(er)

  • SINTEF Digital / Microsystems and Nanotechnology
  • Ukjent

År

2020

Publisert i

Optics Express

ISSN

1094-4087

Forlag

Optical Society of America

Årgang

28

Hefte nr.

10

Side(r)

15542 - 15561

Vis denne publikasjonen hos Cristin