Til hovedinnhold
Norsk English

A comparative analysis of structural defect formation in Si+ implanted and then plasma hydrogenated and in H+ implanted crystalline silicon

Kategori

Vitenskapelig artikkel

Språk

Engelsk

Forfatter(e)

  • Heidi Nordmark
  • Alexander Ulyashin
  • John C Walmsley
  • Randi Holmestad

Institusjon(er)

  • Norges teknisk-naturvitenskapelige universitet
  • Ukjent
  • SINTEF AS

År

2008

Publisert i

Solid State Phenomena

ISSN

1012-0394

Årgang

131-133

Side(r)

309 - 315

Vis denne publikasjonen hos Cristin