Investigation of the energy pathway for generation of dislocations in silicon at Σ3 grain boundaries with the kinetic Activation-Relaxation Technique
Kategori
Vitenskapelig foredrag
Oppdragsgiver
- Sigma2 / NN9158K
Språk
Engelsk
Forfatter(e)
- Simen Nut Hansen Eliassen
- Normand Mousseau
- Mickaël Trochet
- Maria Tsoutsouva
- Yanjun Li
- Jesper Friis
- Inga Gudem Ringdalen
Institusjon(er)
- Norges teknisk-naturvitenskapelige universitet
- Ukjent
- SINTEF Industri / Materialer og nanoteknologi
Presentert på
Multiscale Materials Modelling
Sted
Osaka
Dato
28.10.2018 - 02.11.2018